AIソリューション
半導体フォトマスクの製造欠陥
半導体製造のための原板となるフォトマスクは回路パターンの描画装置→検査装置→修正装置での処理を経て完成します。
検査装置は自動でフォトマスクのパターン欠陥を見つけるのですが、この精度が十分ではない場合、装置オペレーターが検出された欠陥を一つ一つレビューして確認を行います。
確認された欠陥は修正装置でパターン修正を行います。
効率的な修正を行うためには、この欠陥情報の信頼性を上げる必要あります。
欠陥分類へのAI技術の適用
弊社はこの課題を解決するためにAI技術を活用しています。
前処理で、マスク設計データと欠陥画像の処理を行い、その結果を欠陥種別と併せてAIエンジンに学習させます。
新たな欠陥画像をAIエンジンに与えると、欠陥の自動分類出力が成される仕組みです。
『EOI-AI』システム
AIの判定で不足する精度はAIでの判定結果の後処理で補正し、更に精度を高めています。
弊社はこのAIソリューションを『EOI-AI』システムとして実現しています。
AI ARTIFICIAL INTELLIGENCE ソリューション(ソフトウェアエンジン)
弊社で開発したソフトウェアエンジンです。

画像ビッグデータによるDeep Learning:欠陥検出、顔認識、ジェスチャー認識を実現します。
熟練者作業のDeep Learning:高精度半導体製造装置の操作性改善を実現します。
«一例»
・手や指の動きを判別し、タッチレスで複雑な機器制御が可能。
・部品の寿命・特性・温度・測定値を入力し、メンテナンス・部品交換時期のお知らせ
・個人識別を可能とし、顔によるゲートのコントロール、不審者の検出。
他、AIソリューションのご提供

EOI-AIはお客様の業務を支援いたします。是非お役立てください。

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