半導体製造装置の画像

HTLは長年にわたる半導体製造装置の開発を通して、画像処理技術に磨きをかけて来ました。
半導体は微細加工が必要ですが、高倍率のレンズを介してカメラで撮像した画像を見て加工を行ったり、加工結果を確認したりします。
しかし、画像が不鮮明な場合、視認性（見やすさ）を改善する等の処理が必要となります。これに画像処理技術を活用します。

画像処理システム

この経験をもとに、画像を扱う装置の様々なニーズに対してライブラリ活用等で効率化を図りながら、高速化、画像強調等、独自の画像処理アルゴリズムを実現し提供しています。

半導体製造装置に関する画像処理の例

（１）視認性の改善（H/Wの限界性能を引き出す、数十nmの世界）
　コントラスト強調、雑音除去、疑似カラー表示他

（２）オートフォーカッシング（高精度を自動で）

（３）エッジロック（高精度加工）

（４）パターンコピーアシスト（繰り返し情報の活用で操作アシスト）

（５）パターンマッチング（位置等の自動検出、形状の判定等）

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