ナノインプリント用レジスト・フォトレジスト


  • ナノインプリント用
    ポリマー

  • ハイブリッド(複合)
    ポリマー

  • ポジティブ・フォトレジスト

  • ネガティブ・フォトレジスト

特長
マイクロエレクトロニクス、半導体・電子デバイス、 MEMS用の高機能材料
主要製品
・ナノインプリント用ポリマー：優れた膜質、最小形状<50nm、高度な転写忠実性
・ハイブリッド(複合)ポリマー：高い透明度と高度な転写忠実性、化学・物理安定性、無溶剤
・ポジティブ・フォトレジスト：広域帯の露光に対応、ポストベーク不要、容易な除去
・ネガティブ・フォトレジスト：リフトオフプロセス、恒久材として使用可能、粘性調整可能
ユーザー事例
NIL Technology (Denmark)
製品メーカー
micro resist technology社
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