卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置(ALD/PEALD)
GEMStar XTシリーズ
テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。
直径200mm、高さ約25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。
酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。プラズマ発生ユニット等多彩なオプションを用意。

  • 写真は卓上プラズマ支援ALD装置/GEMStarXT-SP/DP
GEMStar XT-S/DP™　卓上プラズマ支援ALD装置
プラズマユニットを備えた卓上型プラズマALD装置(PEALD)。
プラズマを使用することによりALDプロセスを促進し、より低温での成膜が可能ですので、耐熱温度が低い基板等にも成膜ができます。
GEMStar XT-S/D™　卓上サーマルALD装置
スタンダードなサーマル式卓上型ALD装置。幅広い材料で高品質な成膜、高いステップカバレージの成膜が可能。
GEMStar XT-R™　卓上サーマルALD装置(プラズマユニットポート付)
後付けでプラズマユニットオプション搭載ができるサーマル式卓上ALD装置。
特長
・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。プラズマユニットを装備、研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適です。
・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単に行えます。
・ロードロック、グローブボックス等多彩なオプションを準備しております。
ALDとは
ALD（原子堆積法）では原子を一層ずつ成膜することが可能で、均一でピンホールの無い膜を成膜できます。
原子層1層から数百ナノメートルまでの成膜に最適です。
高アスペクト比の構造物やカーボンナノチューブなど複雑な形状にもナノラミネートコーティングが行えます。
成膜材料
Al2O3、SiO2、HfO2、TiO2、ZnO等の酸化物、TiN、AlN、NbN等の窒化物、Pt、Ru金属単体膜など
※詳細は弊社までお問い合わせください。
基板
直径4～8インチ、高さ約25mmまでの構造物、オプションにて200mm角の基板、粉体、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能
チャンネル数
最多8種類のプレカーサを装備することができ、多層膜の成膜に最適
チャンバー温度
最高300℃（オプション450℃）
オプション
オゾン発生器、リモートプラズマ装置、粉体コーティング治具（量子ドットやナノパーティクルへコーティング）、Load Lock、スライド式基板Loadingもございます。
※詳細はお問い合わせください。
受託成膜サービス
各種酸化膜、窒化膜、Pt、Ru金属膜の成膜サービス（有償）も実施しております。
詳細はお問い合わせください。
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