株式会社エイチ・ティー・エル

製品リリース情報

2024年3月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）用フォトマスク外観検査装置: Geminiを受注致しました。
本装置は、高い操作性と機能性で御客様から高い支持を受けております。今後も御客様の需要に応える製品をご提供してまいります。
2024年2月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）用フォトマスク外観検査装置: Geminiを受注致しました。
本装置は、VTEC独自のオプトメカトロ技術により、8Kディスプレイや中小型有機ELディスプレイ用フォトマスクの要求に応える高速かつ高精度な外観検査を提供します。
2024年2月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）用フォトマスク修正装置: Sculptorを受注致しました。
本装置は、ショート欠陥（パターンの異常接続）の修正に最適化されたレーザーを搭載しており、高品質な欠陥の修正が可能です。
2024年2月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）用フォトマスク微小寸法測定機: Venusを受注致しました。
本装置は、最大1400×1600mmマスクサイズのCD（微小寸法）を高精度に測定が可能です。
2024年2月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）用フォトマスク座標測定装置: Mercuryを受注致しました。
本装置は、最大1400×1600mmマスクサイズの座標位置を高精度に測定が可能です。
2024年2月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体用フォトマスク修正装置: Pictor2323を受注致しました。
本装置は、機械設計の最適化により本体設置面積が大幅に削減されました。優れた経済性と省スペースを実現します。
2023年10月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体用フォトマスク修正装置: Pictor2323を受注致しました。
本装置は、機械設計の最適化により本体設置面積が大幅に削減されました。優れた経済性と省スペースを実現します。
2023年10月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク修正装置: Pictor2323を受注致しました。
本装置は、フォトマスク修正に必要なあらゆる機能を実装しており、多くのお客様から注目と支持を得ております。
2023年9月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク修正装置: Pictor2323を受注致しました。
本装置は、レーザを用いてフォトマスク上の微細な黒欠陥・白欠陥を修正する装置です。最適化された熱設計と機構設計により、従来装置同等の修正精度を確保しながら、省スペース、低ランニングコストを実現しております。
2023年9月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）フォトマスク外観検査装置: Geminiを受注致しました。
本装置は、VTEC独自のオプトメカトロ技術により、中小型有機ELディスプレイ用フォトマスクの要求に応える高速かつ高精度な外観検査を提供します。
2023年9月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）フォトマスク外観検査装置: Geminiを受注致しました。
本装置は、VTEC独自のオプトメカトロ技術により、8Kディスプレイや中小型有機ELディスプレイ用フォトマスクの要求に応える高速かつ高精度な外観検査を提供します。
2023年9月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）フォトマスク修正装置: Sculptorを受注致しました。
本装置は、ハーフトーンパターンを含むフォトマスクの欠陥補正にも対応致します。
2023年9月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、フラットパネルディスプレイ（FPD）フォトマスク修正装置: Sculptorを受注致しました。
本装置は、ショート欠陥（パターンの異常接続）の修正に最適化されたレーザーを搭載しており、高品質な欠陥の修正が可能です。
2023年8月: HTLは日本の半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク欠陥検査装置: Dione2323-CISを受注致しました。
本装置は、DB比較、ダイ・トゥ・ダイ比較等、各種検査ロジックを実装し、プロセス起因等の撮像イメージの変形に対応致します。
2023年8月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク修正装置: Pictor2323を受注致しました。
本装置は、最適化された熱設計により電力と冷却水の消費量が削減され、機械設計の最適化により本体設置面積が47％削減されました。優れた経済性と省スペースを実現します。
2023年8月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク欠陥検査装置: Dione2323-CISを受注致しました。
本装置は、独自の検査光学系と最新のデータ処理技術により、お客様の検査環境の更なる高品質化、高速化を実現します。また、省スペース設計により既存の製造ラインから、新設ラインまで場所を選ばず、さまざまなシーンでお使い頂けます。
2023年4月: HTLはアジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク修正装置: Pictor2323を受注しました。2024年度納入計画です。最適化された熱設計と機構設計により、従来装置同等の修正精度を確保しながら、省スペース、コンパクト化を実現しています。
2023年2月: HTLは、アジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体用フォトマスク欠陥修正装置 :Pictor2323を受注を致しました。2024年初頭に納入予定です。
2023年2月: HTLはアジアの主要フォトマスクメーカーより、最先端マスク修正装置Sculptor1416（G8.5）を受注しました。
2022年12月: HTLは、アジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体用フォトマスク欠陥修正装置 :Pictor2323を受注を致しました。2023年末に納入予定です。Sculptor2323からモデルチェンジ後1台目の契約となります。
2022年12月: HTLは、アジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体用フォトマスク欠陥修正装置 :Pictor2323を受注を致しました。2023年末に納入予定です。
2022年11月: HTLはアジアの主要半導体フォトマスクメーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置:CRS(Compact Repair System)400S+を受注しました。2023年納入計画です。
今後も御客様の需要に応える製品を提供して参ります。
2022年11月: HTLは、アジアの半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク用欠陥検査装置Dione-CISを２台受注を致しました。
私達は御客様の満足度向上を目指した製品を提供し続けます。
2022年9月: HTLはアジアの主要半導体フォトマスクメーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置:CRS(Compact Repair System)400Sを受注しました。
2023年納入計画です。今後も御客様の需要に応える製品を提供して参ります。
2022年9月: HTLは、アジアの半導体フォトマスクメーカーより、1台目となる半導体フォトマスク用座標位置測定機 :PMARS2323-CRGS(Compact Registration system) を受注を致しました。
最先端のオプトメカトロ技術を搭載した高精度装置になります。
2022年8月: HTLは、アジアの半導体フォトマスクメーカーより、最先端半導体用フォトマスク欠陥装置Sculptor2323を受注致しました。
御客様のニーズを反映し、より良い製品を提供し続けます。
2022年8月: HTLは、半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク用欠陥検査装置Dione-CISを受注を致しました。
本製品発売後5台目の契約となります。
2022年8月: HTLは、半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク用欠陥検査装置Dione-CISを受注を致しました。
私達は御客様の満足度向上を目指した製品を提供し続けます。
2022年8月: HTLは、半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク用欠陥検査装置Dione-CISを受注を致しました。
今後も、御客様により良い製品を提供して参ります。
2022年8月: HTLは、半導体フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク用欠陥検査装置Dione-CISを受注を致しました。
本製品発売後、2台目の契約となります。
2022年7月: アジアの半導体フォトマスクメーカーより、最先端半導体用フォトマスク欠陥装置Sculptor2323を受注致しました。
2022年4月: HTLはアジアの主要フォトマスクメーカーより、OLED等の最先端大型フォトマスク用の集束イオンビームフォトマスク修正装置「Draco(ドラコ)」を受注致しました。
当修正機は、OLED等の最先端フォトマスクやハーフトーンマスクに対応する最新モデルで、OPCなど、微小かつ複雑パターンの修正を可能にしています。
また、局所真空技術を採用し 40％の省スペース化を実現し、CRの限られたスペースの中での設置を可能としています。
2022年1月: HTLはアジアの主要フォトマスクメーカーより、最先端マスク修正装置Sculptor1416（G8.5）を受注しました。
今回の受注もEOL(End Of Life)を迎えた古い世代のリプレース計画として導入されます。
これらEOLを迎えた古い世代の装置は、既に10年以上に亘り、主要生産装置として稼働を継続していますが、リプレースが必要な時期を迎えております。
2022年1月: HTLはアジアの主要半導体フォトマスクメーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置CRS-400を受注しました。
2023年第1四半期に納入予定です。
CRS-400は白・黒欠陥対応の最新モデルであると共に、今回の受注もユーザのリプレース計画に貢献しております。

2021年11月: HTLはアジアの主要半導体フォトマスクメーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置CRS-400を受注しました。
2022年第４四半期に納入予定です。
CRS-400は白・黒欠陥対応の最新モデルであると共に、今回の受注もユーザのリプレース計画に貢献しております。
2021年11月: HTLはアジアの主要フォトマスクメーカーより、大型フォトマスク用欠陥検査装置GEMINIを2台受注しました。
それぞれ2022年第１四半期、第４四半期の装置納入予定です。
GEMINI Systemは、AM-OLED用高精度大型フォトマスク対応の最新モデルであると共に、ユーザのリプレース計画に貢献しております。
2021年10月: HTLはアジアの主要半導体メーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置CRS-400を受注しました。
2022年第４四半期に納入予定です。
CRS-400は白・黒欠陥対応の最新モデルであると共に、ユーザのリプレース計画に貢献しております。
2021年8月: HTLはアジアのフォトマスクメーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置CRS-400を受注しました。
2022年5月に納入予定です。CRS-400は白・黒欠陥対応の最新モデルであると共に、ユーザのリプレース計画に貢献しております。
2021年3月: HTLは主要フォトマスクメーカーより、HTL-VTEC共同ブランドの半導体フォトマスク修正装置CRS-400を受注しました。
12月に納入予定です。CRS-400は白・黒欠陥対応の最新モデルであると共に、ユーザのリプレース計画に貢献しております。

2020年10月: 国内メーカー様より、Aconity3D社（ドイツ）金属用レーザー3Dプリンター、AconityONEを受注しました。
本装置は最大造形サイズ直径400ｍｍ×高さ400ｍｍで、レーザー4本、加熱機能RT～1000℃などの機能を装備しています。
AconityONEは量産用、研究開発用のどちらでも活躍できる、高機能でユーザーフレンドリーな装置です。
2020年9月: 国内バーリング加工メーカー様より、Aconity3D社（ドイツ）金属用レーザー3Dプリンター、AconityMINIを受注しました。
本装置は、予備加熱RT～800℃の機能を装備しており、造形物の残量応力緩和やクラック防止などの効果があります。
予備加熱の最適化は、寸法精度と形状精度を大幅に向上させることができます。
2020年7月: 大手電子機器メーカ様より米国Arradiance社製ALD装置GEMStarXT-DRを受注しました。
本装置はサーマル式ALD装置ですが、プラズマ式ALD装置にアップグレードが可能です。
2020年7月: アジアの主要フォトマスクメーカーより、半導体フォトマスク修正装置を受注しました。
今回の受注は、EOL（End Of Life）を迎えた古い世代のリプレース計画として2台目の装置となります。
これらEOLを迎えた古い世代の装置は、既に10年以上に亘り、主要生産装置として稼働を継続していますが、リプレースが必要な時期を迎えております。
2020年4月: アジアの主要フォトマスクメーカーより、最先端マスク修正装置Sculptor1416（G8.5）を受注しました。
今回の受注は、EOL（End Of Life）を迎えた古い世代のリプレース計画として最初の装置となります。
これらEOLを迎えた古い世代の装置は、既に10年以上に亘り、主要生産装置として稼働を継続していますが、リプレースが必要な時期を迎えております。

2019年10月: 日本の主要半導体会社のお客様より、PVA TePla社(ドイツ)製SAM 300 WAFER AUTOMATION SYSTEM を受注しました。
今回の受注は、お客様で高評価を得られたことが大きな理由です。
2019年8月: 関西の大学様より米国Arradiance社製ALD装置GEMStarXT-SR（サーマル式、PEALDにアップグレード対応）を受注しました。
2019年5月: 国内大手2社より米国Arradiance社製プラズマALD装置GEMStarXT-DPを受注しました。
2019年3月: 日本のお客様から、米国RPMI社製のLaser Deposition Typeの金属3Dプリンター535XRを受注しました。
造形サイズは、1.5m x 0.9m x 1.5mです。日本での1号機です。
2019年3月: 大手マスクショップより第8.5世代対応のブイ・テクノロジー社製マスク検査装置「Gemini」、精密座標測定装置「Mercury」、精密微小寸法（CD）測定装置「Venus」、レーザCVDリペア装置「Sculptor」を受注しました。

2018年11月: 大手マスクショップよりブイ・テクノロジー社製マスク検査装置「Gemini-第8.5世代（G8.5）」を受注しました。
2018年10月: 韓国大手化学メーカより米国Arradiance社製プラズマALD装置GEMStarXT-DPを受注しました。

2017年11月: お客様よりブイ・テクノロジー社製のＧ-10用マスク検査装置「GEMINI」を受注しまた。
2017年9月: 大手マスクショップよりブイ・テクノロジー社製大型フォトマスクリペアシステム「Sculptor1820」を受注しました。この装置は世界規模で展開されます。
2017年8月: 大手マスクショップよりブイ・テクノロジー社製LSIマスクリペアシステム「Sculptorシリーズ」を受注しました。この製品の導入は顧客の世界的な事業のひとつとなります。
2017年7月: 2017年7月31日付で韓国のお客様から、第10.5世代/11世代(G10.5/G11)のブイ・テクノロジー社製大型フォトマスクリペアシステム「Sculptor1820」を受注しました。
近年、第10.5世代/11世代(G10.5/G11)の大型フォトマスク関係製造装置の需要が非常に高まって来ております。
当社はブイ・テクノロジー社製のマスク検査装置「Gemini」、長寸法測定装置「Mercury」、単寸法測定装置「Venus」、マスクブランクス検査装置「Aquarius」と今回受注したマスクリペア装置「Sculptor」の拡販を強化して来ております。
2017年3月: この度早稲田大学のナノテクノロジーリサーチセンター（NTRC：新宿区早稲田鶴巻町）にNIL Technology社（デンマーク）のデスクトップ型ナノインプリント装置CNIv2.0を設置いたしました。
2017年2月: 国内の主要顧客から、米国Arradiance社製プラズマ付原子層堆積装置（ALD）を受注しました。

2016年12月: 星野歯科駒沢クリニック様（154-0012 東京都世田谷区駒沢１1-3-17）から、ドイツ envisionTEC 社製 Dental 3D Printer (Perfactory Vida model) の注文を戴きました。
歯科業界ではデジタル化機器 (口腔内 Scanner, CAD/CAM systems 等の導入）の導入が急速に進むものと思われます。
星野歯科駒沢クリニック様は他に先駆け 3D Printer 等を導入され石膏モデル等を使わない「患者様にやさしい治療」の導入を積極的に進めております。
（今回の導入モデルは、 Perfactory Vida model です。)

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