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 ナノインプリント受託例紹介
 ガリウム・ヒ素基板へのインプリント

Quick Polymer Stampを使用した、350μm厚のガリウム・ヒ素基板への100 mm幅の線状構造物のインプリント.わずか10分間隔で、インプリント工程を行える.
 ガリウム・ヒ素基板へのインプリント

ガリウム・ヒ素基板へのインプリント

ガリウム・ヒ素基板へのインプリント

 
ナノインプリント受託
ニル・テクノロジー社は、ナノインプリント・リソグラフィーの受託サービスを行っています。電子ビームリソグラフィーや先進のプロセス技術によって作成したナノインプリントスタンプを元に、ナノパターンの転写サービスを行います。

自社でナノインプリント工程を持たずに高品質なナノインプリントリソグラフィーを利用したいお客様、特に短期間のみナノインプリントリソグラフィー工程を必要とするお客様には非常にメリットの大きいサービスです。

ナノインプリント受託サービスについて更に詳しく知りたい方はお気軽にHTLまでご連絡ください。

電子ビームリソグラフィー受託
ニル・テクノロジーは電子ビームリソグラフィー受託サービスをご提案しています。最新の電子ビームリソグラフィーシステムを使用することで、お客様の仕様を満たし、ニーズに応えるソリューションを提供します。ニル・テクノロジーは、電子ビームリソグラフィーのレジストをお客様の基板にスピンコートし、レジストを形成します。また、ドライエッチングや薄膜デポジションサービスも、ご提供いたします。

使用する電子ビームリソグラフィーツール:
 JEOL JBX9300FS/2 (ガウシアンビーム)
 Vistec SB352HR (可変成型ビーム)
一般的な要件:   
造形構造物サイズ 20 nm - 1μm
最小加工寸法 20 nm
 基板フォーマット  2,4,6インチウェハー;
65 mm×65 mm×6.35 mm;
6025マスクブランクス
 デザインファイルフォーマット GDSU;DXF(AutoCADフォーマット)

電子ビームリソグラフィーサービスのお見積もり:
見積もりをお出しするためには、デザインファイルその他の情報を頂くことで、ニルテクノロジー社が電子ビームリソグラフィーの描画時間と予測し、正確な価格を計算する必要があります。 正確な見積もりをお出しするために、以下の要件を満たしたGDSIIまたはDFXフォーマットの設計図が必要です。

要件:
・設計図は、デザイン上の全てのオブジェクトを正しい寸法・形状で含んでいる事
・設計図上の全てのオブジェクトは最高199角の多角形であり、丸みのある
 オブジェクト、幅のないラインは存在しない事

電子ビームリソグラフィー受託例 
 
 500 nm 幅シリコン薄膜上の
150 nm 幅ナノ構造物
SiO2犠牲層への300 nm
開口部の形成
仕上げ加工後のシリコン製
補助棒を持つシリコンナノ薄膜



 
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